酸化物用研磨スラリー

サンゴバン・グラスポリッシングスラリーは、酸化物 CMP（化学機械研磨）用途に特化して設計された高精度スラリーシリーズです。バルク酸化物 CMP、酸化物 ILD、ガラス基板研磨など、多様な酸化物処理に対応します。独自開発のジルコニア粒子およびセリア粒子を採用し、他社製品と比較して高い除去率を実現しました。さらに、独自の化学処方により平坦化効率を向上させ、表面欠陥の低減と洗浄性にも優れています。高いコロイド安定性と生物学的安定性を備え、取り扱いも容易です。

特徴とメリット

• 社内開発の研磨粒子による優れた除去効率
• 粒度分布の厳密な管理
• 洗浄性とCoO（総所有コスト）を最適化する化学処方
• 専門知識を持つアプリケーションエンジニアによる技術サポート
• 用途に応じた粒子設計と化学処方によるカスタマイズ対応可能