半導体用クリーナー

サンゴバンの AmberClean™ シリーズは、揮発性有機化合物（VOC）を含まない生分解性の水系洗浄剤で、セラミック基板や CMP スラリーの洗浄に最適です。

"AmberClean 527D"

粒子除去用

半導体基板表面から粒子やプロセス汚染物を効果的に除去するために設計された水系クリーナーです。アルミナ、コロイダルシリカ、ジルコニアスラリーやプロセス薬品を残留物なく除去する独自の界面活性剤技術を採用しました。純水で希釈して、浸漬槽、超音波槽、接触洗浄装置、高圧スプレー洗浄装置などで使用可能です。

"AmberClean GC95L"

ガラス・セラミック用

ガラス、セラミックス、その他のラッピング・スライシング工程で発生する微細粉を除去するために設計された水系クリーナーです。セリア、アルミナ、ダイヤモンド、SiC などの残留物を基板にダメージを与えることなく除去します。1% 溶液で表面張力を 25dyn/cm 未満に低下させ、優れた洗浄性を発揮します。

"AmberClean SCA23R"

セラミック用

サファイア、SiC、その他のセラミック基板から、ラッピング・ポリッシングで発生する微細粉やアルミナ、ダイヤモンド、シリコンカーバイド、シリカなどの研磨剤を効果的に除去します。独自の界面活性剤技術により、プロセス残渣や金属酸化物、ラッピングプレート由来の炭素汚れも残留物なく洗浄可能です。基板表面を傷めることなく、高い洗浄性能を発揮します。

"AmberClean SCA17"

ClasSiC スラリー対応クリーナー

ClasSiC スラリー専用に開発された高効率洗浄剤で、コロイドおよび酸化安定性に優れ、管理と洗浄が容易です。過マンガン酸の分解を促進し、基板やパッド、ツール、工場設備に付着した粒子の除去に効果的です。長期保存でも性能が劣化せず、ガス発生や膨張の心配もありません。

メリット

• VOC フリーで環境に優しい
• 高い洗浄効率と安定性
• セラミック基板や CMP スラリー残渣に対応
• 幅広い洗浄設備で使用可能（浸漬槽、超音波槽、スプレー洗浄など）